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Séance de cours

Plasmes industriels: Formation de gaines et gravure de plasma

Dans cours

PHYS-424: Plasma II

This course completes the knowledge in plasma physics that students have acquired in the previous two courses, with a discussion of different applications, in the fields of magnetic confinement and controlled fusion, astrophysical and space plasmas, and so ...

Description

Cette séance de cours couvre la formation de gaines dans les plasmas industriels, en discutant de la transition entre plasma et parois, du flux d'ions directionnels pour la gravure du plasma, et de l'importance des propriétés de gaine pour la fabrication de circuits intégrés. Il explore également l'utilisation des courants DC et AC dans le traitement du plasma, le critère de Bohm pour la vitesse des ions et l'énergie de bombardement des ions. La séance de cours se termine par des informations sur les réacteurs RF à grande surface pour la production électronique et le dépôt chimique de vapeur de silicium à film mince amélioré par le plasma.

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Enseignant·e

Holger Reimerdes

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Concepts associés (25)

Gravure au plasma

La gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en microfabrication (microélectronique). La gravure au plasma consiste à faire subir à un échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux. Cette méthode de gravure est purement physique (par opposition aux gravures chimiques), au sens où il n'y a pas de réaction chimique entre l'échantillon et le plasma, mais que ce dernier agit uniquement par effet mécanique. Physique des plas

État plasma

thumb|upright|Le soleil est une boule de plasma. thumb|Lampe à plasma.|168x168px thumb|upright|Les flammes de haute température sont des plasmas. L'état plasma est un état de la matière, tout comme l'état solide, l'état liquide ou l'état gazeux, bien qu'il n'y ait pas de transition brusque pour passer d'un de ces états au plasma ou réciproquement. Il est visible sur Terre, à l'état naturel, le plus souvent à des températures élevées favorables aux ionisations, signifiant l’arrachement d'électrons aux atomes.

Guerre des courants

thumb|Thomas Edison, inventeur et homme d'affaires américain, il était en faveur du développement d'un réseau électrique en courant continu. thumb|George Westinghouse, ingénieur et homme d'affaires américain, il a apporté son soutien financier au développement d'un réseau électrique en courant alternatif fonctionnel. thumb|Nikola Tesla, inventeur, physicien et ingénieur en électro-mécanique, il a été l'artisan du développement des réseaux en courant alternatif.

Gravure ionique réactive

La gravure ionique réactive - ou gravure par ions réactifs - très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive-Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi-conducteurs. Il s'agit d'une technique similaire, dans la mise en œuvre, à une gravure au plasma de type pulvérisation cathodique (sputtering). Cependant, dans cette technique, le plasma réagit, non seulement physiquement, mais aussi chimiquement avec la surface d'un wafer, ce qui en retire une partie ou certaines des substances qui y ont été déposées.

Film photovoltaïque

Un film photovoltaïque ou cellule solaire en couche mince ou encore couche mince photovoltaïque est une technologie de cellules photovoltaïques de deuxième génération, consistant à l'incorporation d'une ou plusieurs couches minces (ou TF pour ) de matériau photovoltaïque sur un substrat, tel que du verre, du plastique ou du métal. Les couches minces photovoltaïques commercialisées actuellement utilisent plusieurs matières, notamment le tellurure de cadmium (de formule CdTe), le diséléniure de cuivre-indium-gallium (CIGS) et le silicium amorphe (a-Si, TF-Si).

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Explore la formation de gaine, la gravure au plasma, le traitement au plasma alternatif et la production d'ozone.

Gravure humide: couches minces et microfabrication MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Explore les processus de gravure humide, y compris la gravure anisotrope et isotrope, la microfabrication à membrane mince et les applications en microfabrication.

Physique du plasma: gaines et gravure MOOC: Physique des plasmas : Applications

Explore la formation de plasma, la création de gaines et les applications de gravure de plasma pour la fabrication de circuits intégrés.

Absorption cristalline de silicium

Explore les propriétés des absorbeurs de silicium cristallin dans les cellules solaires, en discutant des coefficients d'absorption, des effets de dispersion et des mécanismes d'absorption dans les semi-conducteurs.

Micro et nanofabrication: Réactions chimiques et procédés d'arrachage

Explore les réactions chimiques et les processus de gravure dans la micro et la nanofabrication, y compris la gravure Si et la formation de Si poreux.

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