Publication

A gas flow uniformity study in large-area showerhead reactors for RF plasma deposition

Christoph Hollenstein, Alan Howling, Laurent Fabien Hubert Sansonnens
2000
Journal Articles

Résumé

A simple one-dimensional model for plasma deposition in a rectangular showerhead reactor with single side pumping has been developed in order to explain the mechanisms which yield uniform deposition using this gas flow configuration. Although the flow velocity increases linearly with distance towards the pumping side, the solution of the transport equations for the neutral species shows that their number densities are constant throughout the reactor. Consequently, the plasma and surface deposition reactions are independent of position in any arbitrarily-large-area showerhead reactor.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/8e7e6c28-2fc9-4227-acc0-81b0fb2c8440

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Dépôt chimique en phase vapeur

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Ablation laser pulsé

L'ablation laser pulsé (en anglais Pulsed Laser Deposition ou PLD) est une méthode de dépôt en couches minces utilisant un laser de très forte puissance. Elle permet de facilement produire divers alliages binaires. Expérimentée pour la première fois en 1965, par H.M. Smith et A.F. Turner, la découverte de l'ablation laser pulsé fait suite aux récentes avancées concernant l'étude et la compréhension des phénomènes d'interactions entre les lasers et les surfaces solides.

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