Mediaspace scheduled maintenance: Aug 25, 2026 07:00 - 12:00 AM. During this time, videos will be temporarily unavailable. Check status updates.

Recherche

Afficher tous les résultats pour

Accueil

Personne

Laurent Fabien Hubert Sansonnens

Cette personne a quitté l’EPFL

À propos
Confidentialité
Mentions légales

Graph Chatbot

Publications associées (17)

Veuillez noter qu'il ne s'agit pas d'une liste complète des publications de cette personne. Elle inclut uniquement les travaux sémantiquement pertinents. Pour une liste complète, veuillez consulter Infoscience.

Afficher plus

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Publications associées (17)

Afficher plus

Uniformity study in large-area showerhead reactors

Laurent Fabien Hubert Sansonnens, Raffaello Sobbia

Large area plasma-enhanced chemical vapor deposition of thin films such as silicon nitride or amorphous silicon is widely used for thin film transistor fabrication in the flat panel display industry. A numerical three-dimensional model to calculate the dep ...

2005

Electromagnetic sources of nonuniformity in large area capacitive reactors

Christoph Hollenstein, Alan Howling, Laurent Fabien Hubert Sansonnens

Theory and experiment show that two electromagnetic modes are necessary and sufficient to determine the field nonuniformity within a parallel-plate rf capacitive plasma reactor. These two modes give rise to the standing wave effect and the telegraph effect ...

2007

Fast equilibration of silane/hydrogen plasmas in large area RF capacitive reactors monitored by optical emission spectroscopy

Christoph Hollenstein, Alan Howling, Laurent Fabien Hubert Sansonnens, Benjamin Strahm

The optimal plasma parameters for plasma processing, such as deposition of microcrystalline silicon from silane and hydrogen, are generally chosen in steady-state discharge conditions. However, this steady state must be reached in a short time after plasma ...

2007