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Séance de cours

Microcontact Impression: Lithographie à l'échelle nanométrique

Dans cours

MICRO-530: Nanotechnology

This course gives the basics for understanding nanotechnology from an engineer's perspective: physical background, materials aspects and scaling laws, fabrication and imaging of nanoscale devices. ...

Description

Cette séance de cours de l'instructeur couvre la technique d'impression par microcontact (UCP) pour la lithographie à l'échelle nanométrique. Il explique le processus d'utilisation d'un tampon pour transférer des motifs sur des substrats, en soulignant les défis et les limites. La séance de cours aborde également la biostructuration et présente des exemples de timbres hybrides en couches pour une meilleure adaptation du substrat. En outre, il fournit un aperçu des méthodes de nano-fabrication existantes et à venir, y compris la lithographie au pochoir, et décrit les bases de la lithographie, de la lithographie par faisceau d'électrons, de la fabrication de faisceaux d'ions focalisés, de la lithographie par nano-empreinte et de la lithographie par sonde à balayage.

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Enseignant·e·s (2)

Jürgen Brugger

I am a Professor of Microengineering and co-affiliated to Materials Science. Before joining EPFL I was at the MESA Research Institute of Nanotechnology at the University of Twente in the Netherlands, at the IBM Zurich Research Laboratory, and at the Hitachi Central Research Laboratory, in Tokyo, Japan. I received a Master in Physical-Electronics and a PhD degree from Neuchâtel University, Switzerland. Research in my laboratory focuses on various aspects of MEMS and Nanotechnology. My group contributes to the field at the fundamental level as well as in technological development, as demonstrated by the start-ups that spun off from the lab. In our research, key competences are in micro/nanofabrication, additive micro-manufacturing, new materials for MEMS, increasingly for wearable and biomedical applications. Together with my students and colleagues we published over 200 peer-refereed papers and I had the pleasure to supervise over 25 PhD students. Former students and postdocs have been successful in receiving awards and starting their own scientific careers. I am honoured for the appointment in 2016 as Fellow of the IEEE “For contributions to micro and nano manufacturing technology”. In 2017 my lab was awarded an ERC AdvG in the field of advanced micro-manufacturing.

Giovanni Boero

Source officielle

Proximité ontologique

Génie chimique

Nanotechnologie: Nanotechnologie

Concepts associés (29)

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Lithographie extrême ultraviolet

vignette|La technologie EUV. vignette|Outil de lithographie EUV. La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).

Dip-pen nanolithography

Dip pen nanolithography (DPN) is a scanning probe lithography technique where an atomic force microscope (AFM) tip is used to create patterns directly on a range of substances with a variety of inks. A common example of this technique is exemplified by the use of alkane thiolates to imprint onto a gold surface. This technique allows surface patterning on scales of under 100 nanometers.

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Séances de cours associées (32)

Nanomanufacturation avancée : Lithographie et auto-assemblage

Déplacez-vous dans des techniques avancées de nanomanufacturing, y compris la lithographie et le copolymère bloc auto-assemblage pour la fabrication précise des appareils.

Lithographie : Lithographie par sonde à balayage MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Plonge dans la lithographie de sonde de balayage, explorant ses principes et applications potentielles dans la nano-fabrication.

Lithographie: Méthodes alternatives de structuration MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Explore des méthodes de lithographie alternatives telles que la nanoimpression et la lithographie au pochoir pour la fabrication de nanofils et la structuration de surface exotique.

Lithographie: Technologies de microfabrication

Explore la lithographie dans les technologies de microfabrication, couvrant le dépôt de films minces, la résolution d'impression, le flux de processus, et les limitations imposées par diffraction.

Lithographie : Concepts généraux et fabrication de masques MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Couvre les concepts de lithographie, la fabrication de masques, la lithographie UV et les techniques émergentes.

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