Quantum et nanocomputing: Lithographie et techniques de simulation

Cette séance de cours couvre des techniques de lithographie avancées telles que Focused Ion Beam (FIB) et Electron Beam Lithographie (EBL) pour la nanofabrication, ainsi que des étapes de simulation pour la conception de circuits, y compris des algorithmes de simulation ab-initio et de simulation de circuits. L'instructeur explique le processus de lithographie, de modélisation à l'échelle nanométrique et de caractérisation des structures nanométriques. En outre, la séance de cours se penche sur l'impact des variations d'horloge sur la performance du circuit et la solution itérative autocohérente pour la conception du circuit. On discute également du développement de l'algorithme pour la distribution des charges, des calculs équivalents de tension d'entrée et de l'importance de la stabilité dans les interactions moléculaires.