Mediaspace scheduled maintenance: Aug 25, 2026 07:00 - 12:00 AM. During this time, videos will be temporarily unavailable. Check status updates.

Séance de cours

Lithographie : méthodes et importance

Description

Cette séance de cours couvre la lithographie comme méthode d'impression sur des surfaces lisses, définissant des motifs sur des couches de polymère pour la fabrication de micro / nano. Il explique divers types de lithographie tels que optique, faisceau d'électrons, nano empreinte, et plus encore. L'importance de la lithographie dans l'établissement des caractéristiques minimales pouvant être transférées est soulignée. Les étapes impliquées dans la lithographie, y compris la préparation de la conception et du masque, la fabrication du masque, le revêtement, l'exposition, les propriétés de résistance, l'alignement et le développement, sont discutées. La séance de cours aborde également les principales questions liées à la lithographie.

Cette vidéo est disponible exclusivement sur Mediaspace pour un public restreint. Veuillez vous connecter à Mediaspace pour y accéder si vous disposez des autorisations nécessaires.

Regarder sur Mediaspace

Source officielle

Proximité ontologique

Génie chimique

Nanotechnologie: Nanotechnologie

Concepts associés (19)

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Lithographie extrême ultraviolet

vignette|La technologie EUV. vignette|Outil de lithographie EUV. La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Afficher plus

Séances de cours associées (35)

Lithographie: Technologies de microfabrication

Explore la lithographie dans les technologies de microfabrication, couvrant le dépôt de films minces, la résolution d'impression, le flux de processus, et les limitations imposées par diffraction.

Nanomanufacturation avancée : Lithographie et auto-assemblage

Déplacez-vous dans des techniques avancées de nanomanufacturing, y compris la lithographie et le copolymère bloc auto-assemblage pour la fabrication précise des appareils.

Technologies de microfabrication

Explore les technologies de microfabrication, la lithographie, MEMS, les processus de salle blanche, l'amélioration de la résolution, les masques de changement de phase et la complexité de la fabrication des puces.

Lithographie : Concepts généraux et fabrication de masques MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Couvre les concepts de lithographie, la fabrication de masques, la lithographie UV et les techniques émergentes.

Lithographie: Méthodes alternatives de structuration MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Explore des méthodes de lithographie alternatives telles que la nanoimpression et la lithographie au pochoir pour la fabrication de nanofils et la structuration de surface exotique.

Afficher plus

Concepts associés (19)

Photolithographie

Lithographie extrême ultraviolet

Lithographie à faisceau d'électrons

Nanolithography

Nanoimprint lithography

Afficher plus