Publication

Grayscale Patterning of Silica

2024

Résumé

Grayscale photolithography is an advanced microfabrication technique that enables the creation of complex three-dimensional structures. Unlike traditional lithography, which produces binary patterns (black or white), grayscale photolithography offers the possibility of precisely controlling the intensity of light exposure to obtain patterns with different heights or depths in a single exposure step. After exposing patterns on the photoresists, we used an ion electron beam (IBE) to etch the silica with different recipes. This enabled us to highlight the effects of plasma etching on silica, such as the etching rate and silica behavior.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/e6842dd9-47b3-46ea-9e15-9844fd4fcb9c

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

2024

Résumé

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/e6842dd9-47b3-46ea-9e15-9844fd4fcb9c

À propos de ce résultat

Concepts associés (32)

Gravure au plasma

La gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en microfabrication (microélectronique). La gravure au plasma consiste à faire subir à un échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux. Cette méthode de gravure est purement physique (par opposition aux gravures chimiques), au sens où il n'y a pas de réaction chimique entre l'échantillon et le plasma, mais que ce dernier agit uniquement par effet mécanique. Physique des plas

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Gravure (microfabrication)

La gravure (aussi appelée parfois par son nom anglophone, etching) est un procédé utilisée en microfabrication, qui consiste à retirer une ou plusieurs couches de matériaux à la surface d'un wafer. La gravure est une étape critique, extrêmement importante, lors de la fabrication d'éléments de microélectronique, chaque wafer pouvant subir de nombreuses étapes de gravure. Pour chaque étape de gravure, une partie du wafer est protégée de la gravure par une couche protectrice qui résiste à cette gravure.

Afficher plus

Publications associées (2)

Grayscale Patterning of Silica

Chattez avec Graph Search

Integration of a microfluidic flow cell on a CMOS biosensor for DNA detection

Glow discharge processing in the liquid crystal display industry