Publication

Low-temperature and hydrogen-free silicon dioxide cladding for integrated photonics

Tobias Kippenberg, Rui Ning Wang, Zheru Qiu, Zihan Li
2023

Résumé

We demonstrate a hydrogen-free low-loss silicon oxide film deposited with SiCl4 and O2 precursor. A very wide low-loss window of 1300 nm to 1620 nm is achieved at deposition temperature as low as 300 ◦C.

Source officielle

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

Low-temperature and hydrogen-free silicon dioxide cladding for integrated photonics

Chattez avec Graph Search

Defect Engineering and Crystallization Kinetics Control via Dual‐Functional Mercaptoacetamide for High‐Performance, Large‐Area Perovskite Solar Modules

Low temperature optical waveguide device fabrication method