Publication

Low temperature optical waveguide device fabrication method

Tobias Kippenberg, Zheru Qiu, Zihan Li
2024
Patents

Résumé

The present invention concerns an optical waveguide device fabrication method comprising providing at least one optical waveguide or optical waveguide core; and depositing at least one silicon dioxide layer or material onto the at least one optical waveguide or optical waveguide core to form a cladding or passivation layer of the optical waveguide device. The at least one silicon dioxide layer or material is deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition using precursors comprising or consisting of silicon tetrachloride and at least one oxidizer, the plasma being an inductively coupled plasma.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/fe2f65af-d6bc-4b80-805c-30d3fd3f80cd

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