Publication

Modeling and design of a low-voltage SOI suspended-gate MOSFET (SG- MOSFET) with a metal-over-gate architecture

Mihai Adrian Ionescu, Philippe Renaud, Michel Declercq, Vincent Pott, Cyrille Hibert, Philippe Flückiger, Georges-André Racine, Raphaël Fritschi
2002
Conference Papers

Résumé

A novel MEMS device architecture: the SOI SG-MOSFET, which combines a solid- state MOS transistor and a suspended metal membrane in a unique metal-over- gate architecture, is proposed. A unified physical analytical model (weak, moderate and strong inversions) is developed and used to investigate main electrostatic characteristics in order to provide first-order design criteria for low-voltage operation and high-performance. It is demonstrated that the use of a thin gate oxide (100) and a low spring constant (

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https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/5d317cf8-8c24-4715-a568-d668ca8b9aa7

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Multigate device

A multigate device, multi-gate MOSFET or multi-gate field-effect transistor (MuGFET) refers to a metal–oxide–semiconductor field-effect transistor (MOSFET) that has more than one gate on a single transistor. The multiple gates may be controlled by a single gate electrode, wherein the multiple gate surfaces act electrically as a single gate, or by independent gate electrodes. A multigate device employing independent gate electrodes is sometimes called a multiple-independent-gate field-effect transistor (MIGFET).

Transistor à effet de champ à grille métal-oxyde

thumb|right|235px|Photographie représentant deux MOSFET et une allumette Un transistor à effet de champ à grille isolée plus couramment nommé MOSFET (acronyme anglais de metal-oxide-semiconductor field-effect transistor — qui se traduit par transistor à effet de champ à structure métal-oxyde-semiconducteur), est un type de transistor à effet de champ. Comme tous les transistors, le MOSFET module le courant qui le traverse à l'aide d'un signal appliqué sur son électrode nommée grille.

Transistor à effet de champ

Un transistor à effet de champ (en anglais, Field-effect transistor ou FET) est un dispositif semi-conducteur de la famille des transistors. Sa particularité est d'utiliser un champ électrique pour contrôler la forme et donc la conductivité d'un « canal » dans un matériau semiconducteur. Il concurrence le transistor bipolaire dans de nombreux domaines d'applications, tels que l'électronique numérique. Le premier brevet sur le transistor à effet de champ a été déposé en 1925 par Julius E. Lilienfeld.

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