Publication

Ultra-Thin Piezoelectric Film Optimization

2017
Student Projects

Résumé

This project focused on optimization of the deposition of platinum (Pt) thin films or use in piezoelectric MEMS/NEMS devices. Theory of piezoelectric, DC and DC-pulsed sputtering and thin film characterization was studied. Two parameters were varied in the deposition of the Pt thin films: gas flow and applied target power. Residual stress, resistivity and thickness were characterized. Aluminum nitride (AlN) deposited on top of the Pt thin films was characterized in terms of residual stress and rocking curves through x-ray diffraction (XRD). Initial results showed that as applied target decreased, deposition rate of Pt decreased, while the influence of Ar gas flow was immediately understood. Results of AlN deposited on Pt showed an improved rocking curve for lower Pt sputtering power and gas flow.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/38f31c94-972b-4bf7-89ad-8c81420586e8

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

2017
Student Projects

Résumé

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/38f31c94-972b-4bf7-89ad-8c81420586e8

À propos de ce résultat

Concepts associés (32)

Couche mince

Une couche mince () est un revêtement dont l’épaisseur peut varier de quelques couches atomiques à une dizaine de micromètres. Ces revêtements modifient les propriétés du substrat sur lesquels ils sont déposés. Ils sont principalement utilisés : dans la fabrication de composants électroniques telles des cellules photovoltaïques en raison de leurs propriétés isolantes ou conductrices ; pour la protection d'objets afin d'améliorer les propriétés mécaniques, de résistance à l’usure, à la corrosion ou en servant de barrière thermique.

Dépôt chimique en phase vapeur

vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

Ablation laser pulsé

L'ablation laser pulsé (en anglais Pulsed Laser Deposition ou PLD) est une méthode de dépôt en couches minces utilisant un laser de très forte puissance. Elle permet de facilement produire divers alliages binaires. Expérimentée pour la première fois en 1965, par H.M. Smith et A.F. Turner, la découverte de l'ablation laser pulsé fait suite aux récentes avancées concernant l'étude et la compréhension des phénomènes d'interactions entre les lasers et les surfaces solides.

Afficher plus

Publications associées (25)

Afficher plus

Ultra-Thin Piezoelectric Film Optimization

Chattez avec Graph Search

Combining structural and functional properties through microstructure engineering using AM

A Split-Client Approach to Second-Order Optimization

Optimization of the Channel Fabrication Process for Suspended Microchannel Resonators Semester project report Advanced NEMS Laboratory Student Name Student Number