Publication

Bioresorbable Frequency-Selective Magnesium Microresonators Fabricated by Ion Beam Etching

2018
Posters

Résumé

We present an innovative microfabrication process to fabricate magnesium-based bioresorbable microelectromechanical systems (MEMS) by ion beam etching. This process enables the fabrication of thin biodegradable water-soluble passive electronic components with minimal exposure to aqueous media, by a novel physical vapor deposition, photolithography and dry etching sequence. We demonstrate the design, fabrication and characterization of frequency-selective magnesium RF micro-resonators in air and in water, and compare the results to values obtained by finite element modeling (FEM). Such resonators are candidates for selectively-addressable RF power receivers for bioresorbable wireless implantable medical devices.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/318e5210-6f74-456d-93b1-ad1e188c64fc

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Electron beam physical vapor deposition

vignette|Evaporateur métallique « E-gun » utilisé au centre de recherche « Thales Research & Technology » du milieu des années 80 jusqu’en 2004 pour l’évaporation des sandwichs métalliques de contact ohmique et de grille. L’évaporation par faisceau d’électrons (aussi évaporation par faisceau électronique ; en anglais : Electron-beam physical vapor deposition / EBPVD, aussi simplement electron-beam evaporation) est une forme de dépôt physique en phase gazeuse, plus spécifiquement d’évaporation sous vide, dans laquelle une anode cible sous vide poussé est bombardée par un faisceau d’électrons émis par un canon à électrons.

Dépôt physique par phase vapeur

vignette|Montage expérimental d’une évaporation par dépôt chimique vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est un ensemble de méthodes de dépôt sous vide de films minces : Évaporation directe : Évaporation sous vide (ou évaporation) Évaporation par faisceau d'électron en phase vapeur (angl. electron beam evaporation) Pulvérisation cathodique (sputtering) : les particules de métal sont séparées de leur substrat par bombardement ionique.

Dépôt chimique en phase vapeur

vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

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