Publication

ASSESSMENT OF MICROSTENCILING TECHNIQUE FOR LOW-COST PRODUCTION OF MICROELECTRODES

2005
Reports

Résumé

Shadow mask evaporation is a powerful technique which enables us to make micro- or nano-structures on substrates which are not feasible for conventional photolithography processes, such as plastics, pre-structured substrate, biologically/chemically modified surfaces, etc. In this project, we investigated (i) the transformation of apertures of microstencil mask after several metal deposition steps, and (ii) the resolution of deposited microstructures with/without a gap between a stencil mask and a substrate. The purpose was to asses the microstenciling technique as low-cost production process of microelectrodes onto plastic substrates, which could be applied, for instance, as sensor electrodes on BioMEMS, etc.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/0d9cd222-7308-4174-b3da-3024b39c8652

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

2005
Reports

Résumé

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/0d9cd222-7308-4174-b3da-3024b39c8652

À propos de ce résultat

Concepts associés (21)

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Masque photographique

A photomask is an opaque plate with transparent areas that allow light to shine through in a defined pattern. Photomasks are commonly used in photolithography for the production of integrated circuits (ICs or "chips") to produce a pattern on a thin wafer of material (usually silicon). Several masks are used in turn, each one reproducing a layer of the completed design, and together known as a mask set. For IC production in the 1960s and early 1970s, an opaque rubylith film laminated onto a transparent mylar sheet was used.

Cost curve

In economics, a cost curve is a graph of the costs of production as a function of total quantity produced. In a free market economy, productively efficient firms optimize their production process by minimizing cost consistent with each possible level of production, and the result is a cost curve. Profit-maximizing firms use cost curves to decide output quantities. There are various types of cost curves, all related to each other, including total and average cost curves; marginal ("for each additional unit") cost curves, which are equal to the differential of the total cost curves; and variable cost curves.

Afficher plus

Publications associées (6)

Afficher plus

ASSESSMENT OF MICROSTENCILING TECHNIQUE FOR LOW-COST PRODUCTION OF MICROELECTRODES

Chattez avec Graph Search

Spontaneous formation of ordered micro-wrinkles on a thermosensitive resist

Implementing MEMS technology for soft, (bio)electronics interfaces.

STAMP FABRICATION FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY BY PATTERN DEFINITION WITH STENCIL LITHOGRAPHY