Publication

STAMP FABRICATION FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY BY PATTERN DEFINITION WITH STENCIL LITHOGRAPHY

2006
Reports

Résumé

A silicon stamp for nanoimprint lithography (NIL) was fabricated from the patterns defined by stencil lithography. Since stencil lithography has a capability of producing sub-micron patterns in a single process, we were able to make a silicon stamp with a very simple procedure consisting of only 4 steps. A series of experiments showed that about 200 nm of “defect” structures were well transferred from the stencil to the pattern on silicon stamp for NIL process, which replicates the structures into a silicon substrate by NIL followed by dry etching processes. The presented procedure has a potential to be applied to nanoscale stamp fabrication process.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/19b5b6d8-fdcb-4dfd-a080-903245abd3de

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Concepts associés (32)

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

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