Lithographie : Fabrication étendue

Cette séance de cours couvre les techniques de lithographie en nanofabrication, en se concentrant sur la lithographie par faisceau d'électrons (EBL) et la lithographie par nano-empreinte (NIL). Il explique l'évolution des technologies de lithographie, les composants d'un système EBL, les limites de résolution, les résistances EBL, la génération de motifs, le processus d'impression, les défis de NIL et la fabrication de tampons. L'instructeur discute des principales limites de l'EBL, du processus d'impression, des propriétés de résistance, de l'élimination des couches résiduelles et des défis dans NIL. La séance de cours se termine par un résumé des différentes méthodes de lithographie et de leurs applications.