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Faisceau d'ions ciblé : principes et applications

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Dans cours

MSE-704: 3D Electron Microscopy and FIB-Nanotomography

The principles of 3D surface (SEM) reconstruction and its limitations will be explained. 3D volume reconstruction and tomography methods by electron microscopy (SEM/FIB and TEM) will be explained and compared with x-ray tomography. ...

Description

Cette séance de cours couvre les principes et les applications de la technologie Focused Ion Beam (FIB), y compris son fonctionnement, les applications de base telles que l'imagerie et le fraisage, et les techniques avancées telles que la nanotomographie FIB pour la microscopie 3D. Il explique les composants d'un système FIB moderne, l'interaction entre les faisceaux d'ions et d'électrons, les sources d'ions et l'interaction ion-solide. La séance de cours traite également des avantages de l'utilisation des ions par rapport aux électrons, des différents modes de fonctionnement de la FIB et des techniques telles que la pulvérisation cathodique, le dépôt et le nanousinage. En outre, il explore des sujets tels que l'imagerie induite par faisceau d'ions, les interactions ion-solide, et la préparation d'échantillons TEM en utilisant FIB.

Enseignant·e·s (2)

Marco Cantoni

Enseignement et PhD A co-dirigé les thèses EPFL de Pierre Burdet, Amélie Bazzoni, Farhang Nabiei Cours 3D Electron Microscopy and FIB-Nanotomography MSE-704 Introduction à la microscopie + TP MSE-352 Ce cours d'introduction à la microscopie a pour but de donner un apperçu des différentes techniques d'analyse de la microstructure et de la composition des matériaux, en particulier celles liées aux microscopies électronique et optique. Le cours comprend des cours ainsi que des d

Lucie Navratilova

Expertise Microscopie électronique à balayage MEB (SEM)Microscope SEM/FIBAnalyse EDX Enseignement et PhD Cours 3D Electron Microscopy and FIB-Nanotomography MSE-704 Scanning electron microscopy techniques (a) MSE-636(a) Scanning electron microscopy techniques (b) MSE-636(b)

Source officielle

Concepts associés (30)

Ion source

An ion source is a device that creates atomic and molecular ions. Ion sources are used to form ions for mass spectrometers, optical emission spectrometers, particle accelerators, ion implanters and ion engines. Electron ionization Electron ionization is widely used in mass spectrometry, particularly for organic molecules. The gas phase reaction producing electron ionization is M{} + e^- -> M^{+\bullet}{} + 2e^- where M is the atom or molecule being ionized, e^- is the electron, and M^{+\bullet} is the resulting ion.

Ion beam

An ion beam is a type of charged particle beam consisting of ions. Ion beams have many uses in electronics manufacturing (principally ion implantation) and other industries. A variety of ion beam sources exists, some derived from the mercury vapor thrusters developed by NASA in the 1960s. The most common ion beams are of singly-charged ions. Ion current density is typically measured in mA/cm^2, and ion energy in eV.

Spectrométrie de masse des ions secondaires

La spectrométrie de masse des ions secondaires est un procédé d'analyse de surface connu sous le nom de SIMS, d'après l'acronyme anglais signifiant secondary ion mass spectrometry, qui consiste à bombarder la surface de l'échantillon à analyser avec un faisceau d'ions. L'échantillon est alors pulvérisé, et une partie de la matière pulvérisée est ionisée. Ces ions secondaires sont alors accélérés vers un spectromètre de masse qui permettra de mesurer la composition élémentaire, isotopique ou moléculaire de la surface de l'échantillon.

Microscope électronique

thumb|Microscope électronique construit par Ernst Ruska en 1933.thumb|Collection de microscopes électroniques anciens (National Museum of Health & Medicine). Un microscope électronique (ME) est un type de microscope qui utilise un faisceau d'électrons pour illuminer un échantillon et en créer une très agrandie. Il est inventé en 1931 par des ingénieurs allemands. Les microscopes électroniques ont un pouvoir de résolution supérieur aux microscopes optiques qui utilisent des rayonnements électromagnétiques visibles.

Implantation ionique

L'implantation ionique est un procédé d'ingénierie des matériaux. Comme son nom l'indique, il est utilisé pour implanter les ions d'un matériau dans un autre solide, changeant de ce fait les propriétés physiques de ce solide. L'implantation ionique est utilisée dans la fabrication des dispositifs à semi-conducteurs, pour le traitement de surface des métaux, ainsi que pour la recherche en science des matériaux. Les ions permettent à la fois de changer les propriétés chimiques de la cible, mais également les propriétés structurelles car la structure cristalline de la cible peut être abîmée ou même détruite.

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Haute résolution He Ion Microscopy

Couvre la source d'ions ALIS He et son application en microscopie à haute résolution, fournissant des détails de surface et un contraste de matériau remarquables.

Faisceau d'ions ciblé : principes et applications

Explore les principes et les applications de la technologie Focused Ion Beam, y compris les interactions ion-solide, le broyage ionique et la nanofabrication.

MEMS & Cleanroom: Des couches minces de matériaux et la création de vapeur

Présente MEMS, technologie Cleanroom, oxydation thermique, création de vapeur et principes de formation de films.

Sputtering : Interactions avec les cibles ioniques MOOC: Micro et nanofabrication (MEMS)

Examine les interactions ion-cible dans les processus de pulvérisation de PVD, couvrant le dépôt composé, les dommages de surface et les facteurs influençant les taux d'éjection des cibles.

Microscopie optique : Techniques et applications

Explore les techniques de microscopie optique, les mesures de dimension, le profilage de surface, la caractérisation électrique du MEMS et les techniques de microscopie avancées.

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