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Thermal Probe Nanopatterning Enables Nanoparticle Assembly on PDMS Substrates

2017
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Résumé

In this work, we demonstrate a nanofabrication technique based on thermal scanning probe lithography (t-SPL), PDMS molding, and bottom-up capillary-assisted particle assembly (CAPA). The repeatability of the pattern transfer from the thermal sensitive polymer poly-phthalaldehyde (PPA) to PDMS is studied. Moreover, after the pattern transfer, the gold nano-rods assembly on PDMS substrates with different trap designs is also demonstrated.

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Concepts associés (12)

Scanning probe lithography

Scanning probe lithography (SPL) describes a set of nanolithographic methods to pattern material on the nanoscale using scanning probes. It is a direct-write, mask-less approach which bypasses the diffraction limit and can reach resolutions below 10 nm. It is considered an alternative lithographic technology often used in academic and research environments. The term scanning probe lithography was coined after the first patterning experiments with scanning probe microscopes (SPM) in the late 1980s.

Nanoparticule

Une nanoparticule est selon la norme ISO TS/27687 un nano-objet dont les trois dimensions sont à l'échelle nanométrique, c'est-à-dire une particule dont le diamètre nominal est inférieur à environ. D'autres définitions évoquent un assemblage d'atomes dont au moins une des dimensions se situe à l'échelle nanométrique (ce qui correspond au « nano-objet » tel que défini par la norme ISO précitée) ou insistent sur leurs propriétés nouvelles (dues au confinement quantique et à leur surface spécifique) qui n'apparaissent que pour des tailles de moins d'une centaine de nanomètres.

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

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Formation of Nanowires by Self-Assembly on Highly Oriented Pyrolytic Graphite (HOPG)

Ties between microsystem technology and nano-engineering