Publication

ELECTROSTATIC CLAMPING CHUCK FOR NANOSTENCILS

2006
Reports

Résumé

There is growing interest in using alternative, resistless patterning techniques. Stencil lithography or shadow masking is one of the possible solutions. By means of physical vapor deposition many different materials can be evaporated in vacuum and patterned through a mask onto a substrate. This can be done in static and dynamic mode. The LMIS1 group is currently developing stencils with improved characteristics as well as a setup that will allow dynamic stencil deposition. In such a setup, a nanostencil is mounted onto a xy-stage and is then moved relative to the substrate. The goal of this project is to develop a miniaturized electrostatic chuck that allows the clamping of nanostencils in a reliable and user-friendly manner.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/f0e19617-02e1-4246-b159-e8809189e004

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

2006
Reports

Résumé

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/f0e19617-02e1-4246-b159-e8809189e004

À propos de ce résultat

Concepts associés (32)

Dépôt physique par phase vapeur

vignette|Montage expérimental d’une évaporation par dépôt chimique vapeur Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est un ensemble de méthodes de dépôt sous vide de films minces : Évaporation directe : Évaporation sous vide (ou évaporation) Évaporation par faisceau d'électron en phase vapeur (angl. electron beam evaporation) Pulvérisation cathodique (sputtering) : les particules de métal sont séparées de leur substrat par bombardement ionique.

Dépôt chimique en phase vapeur

vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

Projet (management)

Un projet est — en management d'entreprise — un ensemble finalisé d’activités et d’actions entreprises par une « équipe projet » sous la responsabilité d'un chef de projet dans le but de répondre à un besoin défini par un contrat dans des délais fixés et dans la limite d'une enveloppe budgétaire allouée. Comme exemple de projets célèbres, on peut citer le « projet Manhattan ».

Afficher plus

Publications associées (32)

Afficher plus

ELECTROSTATIC CLAMPING CHUCK FOR NANOSTENCILS

Chattez avec Graph Search

Investigating the impact of nitrogen deposition on the emergent forest ecosystem

Breaking Boundaries Scenarios for Collective Care in Single-Family Homes

Fused Deposition Modelling and Melt Electrowriting of Metallic Tubes