Publication

Conductive SU8 Photoresist for Microfabrication

Philippe Renaud, Heinrich Hofmann, Arnaud Bertsch, Sébastien Jiguet
2005
Journal Articles

Résumé

A conductive composite photoresist has been developed for the direct photopatterning of electrodes. It is based on a dispersion of silver nanoparticles in SU8, a non-conductive, negative-tone photoresist. Manufactured structures have an electrical conductivity at a low silver content of around 6 vol.-%

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/c1a7b04b-512d-4ca4-8950-0d0796a44e97

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

Conductive SU8 Photoresist for Microfabrication

Chattez avec Graph Search

Highly anisotropic carbon fiber electrodes for DEAs and their dynamic non-monotonic conductive properties

Contrasting Views of the Electric Double Layer in Electrochemical CO2 Reduction: Continuum Models vs Molecular Dynamics

Machine learning models for prediction of electrochemical properties in supercapacitor electrodes using MXene and graphene nanoplatelets