Publication

Bringing NoCs to 65nm

Giovanni De Micheli, David Atienza Alonso, Luca Benini, Srinivasan Murali, Federico Angiolini, Antonio Pullini
2007
Journal Articles

Résumé

Very deep submicron process technologies are ideal application fields for NoCs, which offer a promising solution to the scalability problem. This article sheds light on the benefits and challenges of Noc-Based interconnect design in nanometer CMOS. The author present experimental results from fully working 65-NM Noc Designs and a detailed scalability analysis.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/8a05aa2e-576a-4777-b006-d75fc1119c15

À propos de ce résultat

Cette page est générée automatiquement et peut contenir des informations qui ne sont pas correctes, complètes, à jour ou pertinentes par rapport à votre recherche. Il en va de même pour toutes les autres pages de ce site. Veillez à vérifier les informations auprès des sources officielles de l'EPFL.

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

Bringing NoCs to 65nm

Chattez avec Graph Search

Computational Imaging SPAD Cameras

An All-Digital 1 Mbps, 57 pJ/bit Bluetooth Low Energy (BLE) Backscatter ASIC in 65 nm CMOS

2D MoS2 Nanopores: Wafer-scale Fabrication and Monolayer Stability for Long-term Single-Molecule Sensing