Publication

Properties of diamond electrodes for wastewater treatment

Christos Comninellis
1999
Journal Articles

Résumé

B-doped diamond films were deposited by large-area hot filament chem. vapor deposition (HFCVD) on Si and different industrial electrode materials, such as Ti, Zr, Nb, Ta, W, and graphite, with areas up to 50 * 60 cm2. B-doping levels ranging from 50 to several thousand ppm were realized using trimethylborate. These electrodes are characterized in terms of their material and electrochem. properties by SEM, Raman spectroscopy, secondary ion mass spectrometry (SIMS), and cyclic voltammetry. Oxidn. of org. compds. in water was studied using different alcs. and org. acids. In the presence of O2, org. mols. were oxidized even at very low concns. to CO2 in the absence of large amts. of other detectable byproducts. [on SciFinder (R)]

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/872ae802-9583-4fd1-a9a6-9da26172b8a9

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Christos Comninellis
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Concepts associés (32)

Traitement des eaux usées industrielles

Le traitement des eaux usées industrielles décrit les procédés utilisés pour traiter les eaux usées produites par les industries en tant que sous-produits indésirables. Après traitement, les eaux usées industrielles (ou effluents) traitées peuvent être réutilisées ou rejetées dans un égout sanitaire ou une eau de surface dans l'environnement. La plupart des industries produisent des eaux usées. Les tendances récentes ont été de minimiser une telle production ou de recycler les eaux usées traitées dans le processus de production.

Traitement des eaux usées

Le traitement des eaux usées est l’ensemble des procédés visant à dépolluer l’eau usée avant son retour dans le milieu naturel ou sa réutilisation. Les eaux usées sont les eaux qui à la suite de leur utilisation domestique, commerciale ou industrielle sont de nature à polluer les milieux dans lesquels elles seraient déversées. C'est pourquoi, dans un souci de protection des milieux récepteurs, des traitements sont réalisés sur ces effluents collectés par le réseau d'assainissement urbain ou privé.

Dépôt chimique en phase vapeur

vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

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