Publication

Reflow Of Non-Circular Nano-Pillars To Fabricate Nano-Scale Solid Immersion Lenses

2012
Conference Papers

Résumé

We investigate the reflow of non-circular, i.e., triangular and square, shaped pillars to fabricate nano-scale solid immersion lenses (SILs). Electron beam lithography (EBL) and thermal reflow are the core of the fabrication process. For the optical characterization at λ = 642 nm, nano-SILs are replicated on a transparent substrate by soft lithography. The focal spots produced by the nano-SILs show both spotsize reduction and peak-intensity enhancement, which are consistent with the immersion effect.

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Concepts associés (25)

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

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Light-coupling masks: An alternative, lensless approach to high-resolution optical contact lithography