Publication

Determination of oxygen content in MBE AlGaAs layers

Marc Ilegems
1988
Conference Papers

Résumé

Quantitative Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) determination of oxygen incorporation in epitaxial AlGaAs/GaAs layers is strongly affected by the presence of oxygen adsorbed on the surface. By flooding the sample with oxygen isotope O18 during the analysis, one can account and correct for the influence of the adsorbed oxygen O16 species. After the background subtraction, the oxygen content can be determined from the measured ratio of AlO to Al or O to Al signals, knowing the relative sensitivity factors between these quantities as obtained from measurement of an O16 implanted standard.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/6b64b20f-7a3b-4b17-b9d5-fa77e9e69f26

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Concepts associés (32)

Oxygène

L'oxygène est l'élément chimique de numéro atomique 8, de symbole O. C'est la tête de file du groupe des chalcogènes, souvent appelé groupe de l'oxygène. Découvert indépendamment en 1772 par le Suédois Carl Wilhelm Scheele à Uppsala, et en 1774 par Pierre Bayen à Châlons-en-Champagne ainsi que par le Britannique Joseph Priestley dans le Wiltshire, l'oxygène a été nommé ainsi en 1777 par le Français Antoine Lavoisier du grec ancien (« aigu », c'est-à-dire ici « acide »), et (« générateur »), car Lavoisier pensait à tort que : Une molécule de formule chimique , appelée communément « oxygène » mais « dioxygène » par les chimistes, est constituée de deux atomes d'oxygène reliés par liaison covalente : aux conditions normales de température et de pression, le dioxygène est un gaz, qui constitue 20,8 % du volume de l'atmosphère terrestre au niveau de la mer.

Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques

L'épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (EPVOM, aussi connue sous les acronymes anglophones MOVPE — metalorganic vapor phase epitaxy ou MOCVD — metalorganic chemical vapor deposition, terme plus général) est une technique de croissance cristalline dans laquelle les éléments à déposer, sous forme d'organométalliques ou d'hydrures, sont amenés vers le substrat monocristallin par un gaz vecteur. Cette technique de croissance est particulièrement prisée dans l'industrie des semi-conducteurs III-V en raison de la bonne reproductibilité et des fortes vitesses de croissance accessibles.

Arséniure de gallium

L'arséniure de gallium est un composé chimique de formule brute GaAs appartenant à la famille des semiconducteurs -. C'est un matériau semi-conducteur à gap direct présentant une structure cristalline cubique de type sphalérite (blende). Il est utilisé notamment pour réaliser des composants micro-ondes, des circuits intégrés monolithiques hyperfréquences, des composants opto-électroniques, des diodes électroluminescentes dans l'infrarouge, des diodes laser, des cellules photovoltaïques et des fenêtres optiques.

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Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques

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Hot and Hungry: High temperatures induce changes in leaf carbohydrate dynamics and sugar isotope fingerprints

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Recent Advances in Tracer‐Aided Mixing Modeling of Water in the Critical Zone