Publication

Full tungsten and platinum nanoprobes for electrically conducting scanning probe methods

2006
Conference Papers

Résumé

We have developed hybrid AFM probes with SU-8 polymer body and full platinum and tungsten cantilever and tip. The fabrication process uses surface micromachining of a (100) silicon wafer. The metal (platinum or tungsten) is sputter deposited in oxidation sharpened moulds, giving a final tip sharpness smaller than 20 nm. A SU-8 body is subsequently formed. The release is either done by a wet back-side or dry top-side process. The measured hardness of the tungsten and platinum film values 14.8 GPa and 7.3 GPa, respectively. Contact resistances on a gold sample show 25 Ohm and 10 Ohm for the tungsten and platinum probes, respectively. The results are promising for the development of a robust electrically conducting probe.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/5a306ce5-1574-40c1-9533-0b6bf6c29b16

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La microscopie à sonde locale (MSL) ou microscopie en champ proche (MCP) ou scanning probe microscopy (SPM) en anglais est une technique de microscopie permettant de cartographier le relief (nano-topographie) ou une autre grandeur physique en balayant la surface à imager à l'aide d'une pointe très fine (la pointe est idéalement un cône se terminant par un seul atome). Le pouvoir de résolution obtenu par cette technique permet d'observer jusqu'à des atomes, ce qui est physiquement impossible avec un microscope optique, quel que soit son grossissement.

Kelvin probe force microscope

Kelvin probe force microscopy (KPFM), also known as surface potential microscopy, is a noncontact variant of atomic force microscopy (AFM). By raster scanning in the x,y plane the work function of the sample can be locally mapped for correlation with sample features. When there is little or no magnification, this approach can be described as using a scanning Kelvin probe (SKP). These techniques are predominantly used to measure corrosion and coatings. With KPFM, the work function of surfaces can be observed at atomic or molecular scales.

Pulvérisation cathodique

thumb|Pulvérisation cathodique magnétron en cours de dépôt de couche mince La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est un phénomène dans lequel des particules sont arrachées à une cathode dans une atmosphère raréfiée. Elle est une des causes du vieillissement des anciens tubes électroniques, mais est également mise à profit comme méthode de dépôt de couche mince. Il s'agit dans ce cas d'une technique qui autorise la synthèse de plusieurs matériaux à partir de la condensation d’une vapeur métallique issue d’une source solide (cible) sur un substrat.

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