Publication

Fabrication of Heterogeneous Nanogaps for Characterizing Electrochemical Metal Deposition Processes

Nico de Rooij
2010
Posters

Résumé

We present a much simpler and high-throughput method compared to mechanically break junctions (MBJ) and electro-migration, to produce a heterogeneous nanogap, directly using electron beam lithography and metal lift-off technology. Au – Pt and Au – Pt silicide electrodes pairs are fabricated using two-step electron beam lithography. The shape of the electrode apex and the distance between the electrodes are well controlled.

Source officielle

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.

Nico de Rooij
2010
Posters

Résumé

Source officielle

Concepts associés (23)

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

Interference lithography

Interference lithography (or holographic lithography) is a technique for patterning regular arrays of fine features, without the use of complex optical systems or photomasks. The basic principle is the same as in interferometry or holography. An interference pattern between two or more coherent light waves is set up and recorded in a recording layer (photoresist). This interference pattern consists of a periodic series of fringes representing intensity minima and maxima.

Afficher plus

Publications associées (15)

Afficher plus

Fabrication of Heterogeneous Nanogaps for Characterizing Electrochemical Metal Deposition Processes

Chattez avec Graph Search

Spin-on deposition of amorphous zeolitic imidazolate framework films for lithography applications

Nanoimprint stamp fabrication by combination of T-SPL and dry etching

Design and fabrication of stencil masks for quantum experimentation