Publication

Evaluation of thermal scanning probe lithography patterns

2016
Student Projects

Résumé

Thermal scanning probe lithography is a novel lithographic method that allows to create three dimension pattern with high precision at the micro and nano scale. In this project, the impact of two important parameters (the distance be- tween the tip and the substrate before patterning and the electrostatic force) on the depth and the roughness of the pattern were tested. An experiment about a pulsed mode was done to observe the impact on the depth and the roughness. In the end, a small experiment was done to test the repeatability between experiments with identical parameters. This project allowed to show the important impact of the tested parameters on the patterning quality. Moreover, it showed that the use of a new tip changes highly the characteristics of the pattern.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/0eab76a5-6793-4c5b-9e7b-2de97bdc8010

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Concepts associés (22)

Scanning probe lithography

Scanning probe lithography (SPL) describes a set of nanolithographic methods to pattern material on the nanoscale using scanning probes. It is a direct-write, mask-less approach which bypasses the diffraction limit and can reach resolutions below 10 nm. It is considered an alternative lithographic technology often used in academic and research environments. The term scanning probe lithography was coined after the first patterning experiments with scanning probe microscopes (SPM) in the late 1980s.

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

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STAMP FABRICATION FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY BY PATTERN DEFINITION WITH STENCIL LITHOGRAPHY