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High vacuum chemical vapour deposition of oxides: A review of technique development and precursor selection

Patrik Willi Hoffmann, Ali Dabirian, Yury Kuzminykh, Michael Oliver Reinke

Thin films of oxide materials are widely used for various types of applications. The selection of an appropriate deposition method depends on the aimed material and application. We review here a high vacuum chemical vapour deposition (HV-CVD) method, which ...

Elsevier2013

Evaluation of niobium dimethylamino-ethoxide for chemical vapour deposition of niobium oxide thin films

Patrik Willi Hoffmann, Ali Dabirian, Giacomo Benvenuti, Estelle Wagner, Yury Kuzminykh

Chemical vapour deposition (CVD) processes depend on the availability of suitable precursors. Precursors that deliver a stable vapour pressure are favourable in classical CVD processes, as they ensure process reproducibility. In high vacuum CVD (HV-CVD) pr ...

Elsevier2014

Precursor adsorption efficiency of titanium tetra isopropoxide in the presence of a barium beta-diketonate precursor

Patrik Willi Hoffmann, Yury Kuzminykh, Michael Oliver Reinke

Barium titanate is a promising candidate for integrated photonic application due to its high electro-optic coefficient; therefore the need arises for a suitable deposition technique which provides high film quality at low temperatures (below 500 degrees C) ...

Elsevier Science Sa2013