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Cette séance de cours couvre diverses techniques de gravure sèche pour des matériaux tels que la silice, le pyrex, le SiN4 et le Si, y compris les processus continus et pulsés, la gravure cryogénique et la gravure isotrope à l'aide de SF6. Il explique l'utilisation de différents matériaux de masque, compositions de gaz, pressions et vitesses de gravure, ainsi que l'importance de la sélectivité et de la qualité de surface dans la micro et la nanofabrication.