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Interféromètres : applications et lithographie

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Description

Cette séance de cours couvre les principes et les applications des interféromètres, tels que les interféromètres de Mach-Zehnder et de Sagnac, y compris leur utilisation dans la mesure de l'indice de réfraction et de la rotation. Il discute également des techniques de lithographie comme la lithographie d'interférence et la lithographie d'interférence d'EUV pour créer des nanostructures. L’instructeur explique le contrôle du contraste des images aériennes en lithographie interférométrique et présente des exemples de nanostructures 1D et 2D créées à l’aide de ces techniques.

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Concepts associés (21)

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

Lithographie extrême ultraviolet

vignette|La technologie EUV. vignette|Outil de lithographie EUV. La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).

Interference lithography

Interference lithography (or holographic lithography) is a technique for patterning regular arrays of fine features, without the use of complex optical systems or photomasks. The basic principle is the same as in interferometry or holography. An interference pattern between two or more coherent light waves is set up and recorded in a recording layer (photoresist). This interference pattern consists of a periodic series of fringes representing intensity minima and maxima.

Common-path interferometer

A common-path interferometer is a class of interferometers in which the reference beam and sample beams travel along the same path. Examples include the Sagnac interferometer, Zernike phase-contrast interferometer, and the point diffraction interferometer. A common-path interferometer is generally more robust to environmental vibrations than a "double-path interferometer" such as the Michelson interferometer or the Mach–Zehnder interferometer.

Lithographie à faisceau d'électrons

L'utilisation d'un faisceau d'électrons pour tracer des motifs sur une surface est connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons. On parle également de lithographie électronique. Par rapport à la photolithographie, l'avantage de cette technique est qu'elle permet de repousser les limites de la diffraction de la lumière et de dessiner des motifs avec une résolution pouvant aller jusqu'au nanomètre. Cette forme de lithographie a trouvé diverses formes d'application dans la recherche et l'industrie des semi-conducteurs et dans ce qu'il est convenu d'appeler les nanotechnologies.

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