Publication

Applications of the cavity ring-down technique to a large-area rf-plasma reactor

Christoph Hollenstein, Alan Howling, Jean-Luc Dorier
1999
Journal Articles

Résumé

The cavity ring-down technique is applied to an industrial-scale radio-frequency (rf) plasma reactor for the measurement of the density and spatial profile of negative ions in pure oxygen and hydrogen rf plasmas, and for the detection of nanometric particles in argon-silane plasmas. The real-time observation of powder formation is demonstrated to be feasible by the cavity ring-down technique. An observed plasma-induced spurious drift of the ring-down time is also studied and related to water desorption from the reactor walls and electrodes which is re-adsorbed on the mirror surfaces.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/edd678a2-5943-44b4-a294-3d3195b9bf0e

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Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma

thumb|Équipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d'un état gazeux (vapeur). Des réactions chimiques se déroulent au cours du processus après la formation d'un plasma à partir des gaz du réacteur. Le plasma est généralement créé à partir de ce gaz par une décharge électrique pouvant être générée à partir de sources radio-fréquences (13,56 MHz), micro-ondes (2,45 GHz) ou par une décharge électrique continue entre deux électrodes.

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