Publication

Metallic Nanowires by Full Wafer Stencil Lithography

Jürgen Brugger, Luis Guillermo Villanueva Torrijo, Andreea Veronica Savu, Oscar Vazquez Mena, Marc Antonius Friedrich van den Boogaart, Katrin Sidler Arnet
2008
Journal Articles

Résumé

Aluminum and gold nanowires were fabricated using 100 mm stencil wafers containing nanoslits fabricated with a focused ion beam. The stencils were aligned and the nanowires deposited on a substrate with predefined electrical pads. The morphology and resistivity of the wires were studied. Nanowires down to 70-nm wide and 5 µm long have been achieved showing a resistivity of 10 µΩcm for Al and 5 µΩcm for Au and maximum current density of ~108 A/cm2. This proves the capability of stencil lithography for the fabrication of metallic nanowires on a full wafer scale.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/e80801f9-c884-46f1-af01-0608a3d772c6

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