Bohm diffusionThe diffusion of plasma across a magnetic field was conjectured to follow the Bohm diffusion scaling as indicated from the early plasma experiments of very lossy machines. This predicted that the rate of diffusion was linear with temperature and inversely linear with the strength of the confining magnetic field. The rate predicted by Bohm diffusion is much higher than the rate predicted by classical diffusion, which develops from a random walk within the plasma. The classical model scaled inversely with the square of the magnetic field.
Conductivité thermiqueLa conductivité thermique (ou conductibilité thermique) d'un matériau est une grandeur physique qui caractérise sa capacité à diffuser la chaleur dans les milieux sans déplacement macroscopique de matière. C'est le rapport de l'énergie thermique (quantité de chaleur) transférée par unité de temps (donc homogène à une puissance, en watts) et de surface au gradient de température. Notée λ (anciennement K voire k), la conductivité thermique intervient notamment dans la loi de Fourier.
Shiva laserThe Shiva laser was a powerful 20-beam infrared neodymium glass (silica glass) laser built at Lawrence Livermore National Laboratory in 1977 for the study of inertial confinement fusion (ICF) and long-scale-length laser-plasma interactions. Presumably, the device was named after the multi-armed form of the Hindu god Shiva, due to the laser's multi-beamed structure. Shiva was instrumental in demonstrating a particular problem in compressing targets with lasers, leading to a major new device being constructed to address these problems, the Nova laser.
Diffusion ThomsonLa diffusion Thomson est la diffusion d'un photon de faible énergie sur une particule chargée de matière au repos, généralement un électron libre, c'est-à-dire non lié à un atome. La diffusion Thomson est un des deux régimes particuliers de la diffusion Compton plus générale. Cette diffusion a été expliquée par Joseph John Thomson. Cette diffusion (voir Diffusion des particules) s'effectue pour des énergies faibles, le rayonnement électromagnétique est absorbé puis réémis par la particule.
Accélération laser-plasmaL'accélération laser-plasma est un thème de recherche visant à développer des sources de particules ayant des propriétés inédites. Actuellement, l'accélération de particules est très développée sur des accélérateurs de particules conventionnels. Néanmoins, le champ accélérateur dans ces structures radiofréquences est limité à des valeurs de l'ordre de . Pour atteindre des énergies plus élevées, afin d'étudier des phénomènes nouveaux, les scientifiques ont été contraints de construire des accélérateurs gigantesques ( pour le LHC).
Émission par effet de champL'émission par effet de champ, ou, sous forme abrégée, lʼémission de champ, est l'émission d'électrons induits par des champs électromagnétiques externes. Elle peut avoir lieu à partir d'une surface solide ou liquide, ou bien directement au niveau d'un atome en milieu gazeux. La théorie d'émission par effet de champ à partir des métaux a été décrite la première fois par Fowler et Nordheim en 1928. Le courant d'émission électronique se calcule au moyen de l'équation dite de Fowler-Nordheim : avec Canon à éle
Facteur de diffusion atomiqueEn physique, le facteur de diffusion atomique est une mesure de la puissance de diffusion d'une onde par un atome. Il dépend de la nature des interactions entre l'onde et l'objet diffusant, donc de la radiation incidente : en général, il s'agit de la diffusion élastique de rayons X, de neutrons ou d'électrons. En cristallographie, les facteurs de diffusion atomiques sont utilisés pour calculer le facteur de structure d'une réflexion donnée lors de la diffraction par un cristal.
Effet Casimirvignette|Forces de Casimir sur des plaques parallèles. vignette|Forces de Casimir sur des plaques parallèles. L’effet Casimir, tel que prédit par le physicien néerlandais Hendrik Casimir en 1948, est une force attractive entre deux plaques parallèles conductrices et non chargées. Cet effet, dû aux fluctuations quantiques du vide, existe également pour d'autres géométries d'électrodes. Expérimentalement, on utilise souvent des miroirs. Les fluctuations quantiques du vide sont présentes dans toute théorie quantique des champs.
Écrantage du champ électriqueL'écrantage du champ électrique consiste en l'atténuation du champ électrique en raison de la présence de porteurs de charge électrique mobiles au sein d'un matériau. Il s'agit d'un comportement essentiel des fluides porteurs de charge, comme les gaz ionisés (plasmas), les porteurs de charge électrique. L'écrantage électrique est un phénomène important parce qu'il diminue considérablement la pertinence de l'étude des champs électriques. Cependant, comme les fluides en jeu comportent des particules chargées, ils peuvent produire des champs magnétiques ou être affectés par eux.
Spectroscopie d’émission atomiquevignette|250x250px| Spectromètre d'émission atomique à plasma à couplage inductif La spectroscopie d'émission atomique (AES) est une méthode d'analyse chimique qui utilise l'intensité de la lumière émise par une flamme, un plasma, un arc ou une étincelle à une longueur d'onde particulière pour déterminer la quantité d'un élément dans un échantillon. La longueur d'onde de la raie spectrale atomique sur le spectre d'émission donne l'identité de l'élément tandis que l'intensité de la lumière émise est proportionnelle au nombre d'atomes de l'élément.
Résistance thermiqueLa résistance thermique quantifie l'opposition à un flux thermique entre deux isothermes entre lesquels s'effectue un transfert thermique de sorte que : où est le flux thermique en watts (W) et est la différence de température en kelvins (K). La résistance thermique s'exprime en kelvins par watt (K/W). La résistance thermique surfacique (en mètres carrés-kelvins par watt, K·m·W-1, est son équivalent rapporté à la densité de flux thermique (en watts par mètre carré, W/m) : Cette dernière est davantage utilisée dans le cas des surfaces planes notamment dans le domaine de la thermique du bâtiment.
Form factor (design)Form factor is a hardware design aspect that defines and prescribes the size, shape, and other physical specifications of components, particularly in electronics. A form factor may represent a broad class of similarly sized components, or it may prescribe a specific standard. It may also define an entire system, as in a computer form factor. As electronic hardware has become smaller following Moore's law and related patterns, ever-smaller form factors have become feasible.
