Publication

Characteristics of InAsP/InGaAsP Edge Emitting Laser Diodes Obtained by Localised Fusion on GaAs Substrates

Elyahou Kapon, Jean-François Carlin, Alok Rudra, Vladimir Iakovlev, Claude-Albert Berseth
1997
Journal Articles

Résumé

Chemical beam epitaxy (CBE) grown InAsP/InGaAsP edge-emitting laser diodes on GaAs substrates obtained by localised fusion in a nitrogen environment exhibit high quality fused interfaces. A degradation of fused lasers is observed which is attributed to the disordering of quantum wells at fusion temperatures induced by point defects incorporated during low temperature growth.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/d227541f-1790-4200-8d70-4dc73322da71

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Épitaxie par jet moléculaire

L'épitaxie par jets moléculaires (ou MBE pour Molecular Beam Epitaxy) est une technique consistant à envoyer un ou plusieurs jets moléculaires vers un substrat préalablement choisi pour réaliser une croissance épitaxiale. Elle permet de faire croître des échantillons nanostructurés de plusieurs à une vitesse d'environ une monocouche atomique par seconde.

Épitaxie

L'épitaxie est une technique de croissance orientée, l'un par rapport à l'autre, de deux cristaux possédant un certain nombre d'éléments de symétrie communs dans leurs réseaux cristallins. On distingue l'homo-épitaxie, qui consiste à faire croître un cristal sur un cristal de nature chimique identique, et l'hétéro-épitaxie, dans laquelle les deux cristaux sont de natures chimiques différentes. Étymologiquement, « épi » en grec signifie « sur » et « taxis », « arrangement ».

Épitaxie en phase vapeur aux organométalliques

L'épitaxie en phase vapeur aux organométalliques (EPVOM, aussi connue sous les acronymes anglophones MOVPE — metalorganic vapor phase epitaxy ou MOCVD — metalorganic chemical vapor deposition, terme plus général) est une technique de croissance cristalline dans laquelle les éléments à déposer, sous forme d'organométalliques ou d'hydrures, sont amenés vers le substrat monocristallin par un gaz vecteur. Cette technique de croissance est particulièrement prisée dans l'industrie des semi-conducteurs III-V en raison de la bonne reproductibilité et des fortes vitesses de croissance accessibles.

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