Phase-contrast imagingPhase-contrast imaging is a method of that has a range of different applications. It measures differences in the refractive index of different materials to differentiate between structures under analysis. In conventional light microscopy, phase contrast can be employed to distinguish between structures of similar transparency, and to examine crystals on the basis of their double refraction. This has uses in biological, medical and geological science.
AbsorbanceL'absorbance mesure la capacité d'un milieu à absorber la lumière qui le traverse. On utilise aussi les termes densité optique, opacité ou extinction selon les domaines avec des expressions mathématiques qui diffèrent légèrement. En photographie, l'opacité O désigne, dans le cas d'une observation par transmission, l'inverse du coefficient de transmission T, alors également nommé transparence, ou, dans le cas d'une observation par réflexion, l'inverse de la réflectance ρ.
Metamaterial absorberA metamaterial absorber is a type of metamaterial intended to efficiently absorb electromagnetic radiation such as light. Furthermore, metamaterials are an advance in materials science. Hence, those metamaterials that are designed to be absorbers offer benefits over conventional absorbers such as further miniaturization, wider adaptability, and increased effectiveness. Intended applications for the metamaterial absorber include emitters, photodetectors, sensors, spatial light modulators, infrared camouflage, wireless communication, and use in solar photovoltaics and thermophotovoltaics.
Microscope à contraste de phasethumb|Photographie d'un cellule épithéliale de joue vue par un Microscope à contraste de phase Le microscope à contraste de phase est un microscope qui exploite les changements de phase d'une onde lumineuse traversant un échantillon. Cet instrument fut développé par le physicien hollandais Frederik Zernike dans les années 1930, ce qui lui valut le prix Nobel de physique en 1953. Emilie Bleeker, physicienne reconnue pour le développement d'instruments, est la première à mettre le microscope à contraste de phase en utilisation.
Lithographie extrême ultravioletvignette|La technologie EUV. vignette|Outil de lithographie EUV. La lithographie extrême ultraviolet ou lithographie EUV est un procédé de photolithographie assez semblable aux procédés de lithographie classiques actuels. Il utilise un rayonnement ultraviolet (UV) d'une longueur d'onde de l'ordre de dix à quinze nanomètres (le rayonnement EUV avoisine donc la gamme des rayons X-mous), en remplaçant les objectifs (ou masques dits « en transmission ») par une série de miroirs de précision (exemple des masques dits « en réflexion »).
Masque photographiqueA photomask is an opaque plate with transparent areas that allow light to shine through in a defined pattern. Photomasks are commonly used in photolithography for the production of integrated circuits (ICs or "chips") to produce a pattern on a thin wafer of material (usually silicon). Several masks are used in turn, each one reproducing a layer of the completed design, and together known as a mask set. For IC production in the 1960s and early 1970s, an opaque rubylith film laminated onto a transparent mylar sheet was used.
AmortisseurUn amortisseur est un système mécanique destiné à atténuer la force d'un choc ou l’amplitude des oscillations d'un objet en amortissant ses vibrations, généralement par dissipation d'énergie. De nombreux phénomènes physiques peuvent être utilisés pour absorber l’énergie cinétique de l’objet en mouvement : pertes de charge d'un fluide, frottement, comportement hystérétique Cette énergie est souvent transformée en énergie thermique mais peut être convertie dans une autre forme, par exemple électrique.
PhotolithographieLa photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.
Échocardiographie de contrasteL'échocardiographie de contraste consiste à améliorer la visualisation du cœur lors d'une échocardiographie par l'injection de micro-bulles d'air. Cette technique s'est développée à la fin des années 1980, après des premiers tests à la fin des années 1970, pour la visualisation du cœur droit et durant les années 1990 pour l'exploration du cœur gauche. Les premières expériences d'opacification myocardique chez l'animal (par injection directe dans la racine de l'aorte) datent du début des années 1980.
Intensité énergétique (physique)L’intensité énergétique est une grandeur radiométrique qui est la mesure de la puissance (ou flux énergétique) d'un rayonnement électromagnétique émise par une source quasi-ponctuelle, par unité d'angle solide, dans une direction donnée. Son unité dans le Système international d'unités est le watt par stéradian (). Cette grandeur sert à définir la candela, l'unité de mesure de son correspondant photométrique l'intensité lumineuse.
Nanoimprint lithographyNanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.
Intensity (physics)In physics, the intensity or flux of radiant energy is the power transferred per unit area, where the area is measured on the plane perpendicular to the direction of propagation of the energy. In the SI system, it has units watts per square metre (W/m2), or kg⋅s−3 in base units. Intensity is used most frequently with waves such as acoustic waves (sound) or electromagnetic waves such as light or radio waves, in which case the average power transfer over one period of the wave is used.
NanolithographyNanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.
Dip-pen nanolithographyDip pen nanolithography (DPN) is a scanning probe lithography technique where an atomic force microscope (AFM) tip is used to create patterns directly on a range of substances with a variety of inks. A common example of this technique is exemplified by the use of alkane thiolates to imprint onto a gold surface. This technique allows surface patterning on scales of under 100 nanometers.
Produit de contrasteEn , un produit (ou agent) de contraste est une substance qui augmente artificiellement le contraste permettant de visualiser une structure anatomique (par exemple, un organe) ou pathologique (par exemple, une tumeur) naturellement peu ou pas contrastée, et que l'on aurait donc du mal à distinguer des tissus voisins.
SuperlentilleUne superlentille est une lentille optique élaborée avec des métamatériaux et permettant de distinguer des détails jusqu'à vingt fois inférieurs à la longueur d'onde d'utilisation. Une lentille classique est dite « limitée par la diffraction », c'est-à-dire que l'image la plus petite que l'on pourra obtenir sera toujours une tache d'Airy et donc possède un diamètre dépendant du diamètre de la lentille et de la longueur d'onde d'utilisation, limitant l'utilisation de lentilles classiques en verre optique à l'observation d'objet de quelques centaines de nanomètres.
Microcontact printingMicrocontact printing (or μCP) is a form of soft lithography that uses the relief patterns on a master polydimethylsiloxane (PDMS) stamp or Urethane rubber micro stamp to form patterns of self-assembled monolayers (SAMs) of ink on the surface of a substrate through conformal contact as in the case of nanotransfer printing (nTP). Its applications are wide-ranging including microelectronics, surface chemistry and cell biology. Both lithography and stamp printing have been around for centuries.
Épaisseur optiqueL’épaisseur optique ou profondeur optique est une mesure de la quantité de lumière qui est absorbée ou diffusée lorsqu'elle traverse un milieu, comme une couche d'atmosphère, un nuage, ou tout autre matériau transparent ou translucide. Elle est définie comme étant le logarithme naturel de la fraction de rayonnement électromagnétique (ou de lumière) absorbée par les composants de la couche traversée. C'est une grandeur sans dimension.
TransmittanceLa transmittance, en général, est le rapport caractérisant la transmission d'une grandeur dans un système. Elle se calcule par le rapport entre la grandeur en entrée et en sortie. Elle s'exprime couramment en pourcentage (0 % pour un matériau opaque). Le terme transmittance appartient plutôt au domaine anglophone. Les textes francophones préfèrent souvent d'autres expressions comme facteur de transmission. Filtre (optique) En optique, la transmittance ou coefficient de transmission d'un système optique est le rapport entre l'intensité du rayonnement transmis à l'intensité incidente.
Photonic metamaterialA photonic metamaterial (PM), also known as an optical metamaterial, is a type of electromagnetic metamaterial, that interacts with light, covering terahertz (THz), infrared (IR) or visible wavelengths. The materials employ a periodic, cellular structure. The subwavelength periodicity distinguishes photonic metamaterials from photonic band gap or photonic crystal structures. The cells are on a scale that is magnitudes larger than the atom, yet much smaller than the radiated wavelength, are on the order of nanometers.
