Publication

SETTING-UP AND EVALUATION OF UV-IMPRINT LITHOGRAPHY

2006
Reports

Résumé

UV-imprint lithography has attracted attentions since its invention in 1996 together with thermal imprint lithography, which are so-called nanoimprint lithography (NIL). One of the characteristics of UV-imprint lithography is that a polymer layer to be structured is cured by UV exposure, and therefore the stamp for UV-imprint lithography has to be transparent. In order to establish the UV-imprinting process with the newly introduced system in CMI, we evaluated the process with two different photo-sensitive polymers that have different viscosities. Various nanostructures were realized by using both polymers, and their smallest feature is 67 nm. (Structure size depends on a stamp to be used.)

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/ce8f2f9a-4a7c-4fa8-98d7-dec1682d3c52

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Concepts associés (29)

Nanoimprint lithography

Nanoimprint lithography (NIL) is a method of fabricating nanometer scale patterns. It is a simple nanolithography process with low cost, high throughput and high resolution. It creates patterns by mechanical deformation of imprint resist and subsequent processes. The imprint resist is typically a monomer or polymer formulation that is cured by heat or UV light during the imprinting. Adhesion between the resist and the template is controlled to allow proper release.

Nanolithography

Nanolithography (NL) is a growing field of techniques within nanotechnology dealing with the engineering (patterning e.g. etching, depositing, writing, printing etc) of nanometer-scale structures on various materials. The modern term reflects on a design of structures built in range of 10−9 to 10−6 meters, i.e. nanometer scale. Essentially, the field is a derivative of lithography, only covering very small structures. All NL methods can be categorized into four groups: photo lithography, scanning lithography, soft lithography and other miscellaneous techniques.

Photolithographie

La photolithographie est l'ensemble des opérations permettant de transférer une image (généralement présente sur un masque) vers un substrat. Cette technique est très utilisée dans l'industrie du semi-conducteur. Les motifs de l'image ainsi transférée deviendront par la suite les différentes zones des composants électroniques (exemple : contact, drain...) ou les jonctions entre ces composants.

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