Publication

Searching for optimum conditions in the laser writing of small ohmic contacts

Hubert van den Bergh
1988
Journal Articles

Résumé

Microscopic ohmic contacts are made by laser chem. vapor deposition of platinum on a Pyrex substrate. The elec. cond. of the deposited metal stripes is measured as a function of the laser power, the writing speed, and the organometallic vapor pressure. The latter appears to be the key parameter for producing contacts with low resistance at high writing speeds. Even on these transparent substrates there is no apparent advantage in using light at 350 nm, where photolysis may in principle play a significant role, over using visible light where photolysis is not effective.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/b272c3ae-e895-4489-ba6b-9898004e5f2b

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Concepts associés (32)

Electrical resistance and conductance

The electrical resistance of an object is a measure of its opposition to the flow of electric current. Its reciprocal quantity is , measuring the ease with which an electric current passes. Electrical resistance shares some conceptual parallels with mechanical friction. The SI unit of electrical resistance is the ohm (Ω), while electrical conductance is measured in siemens (S) (formerly called the 'mho' and then represented by ℧). The resistance of an object depends in large part on the material it is made of.

Pointeur laser (présentation)

vignette|300px|Pointeurs laser. Un pointeur laser est un outil utilisé par les conférenciers pour désigner des objets sur un tableau ou un écran. C'est la version moderne de la baguette d'autrefois. À base d'une diode laser de couleur rouge, il prend généralement la forme d'un stylo ou d'un porte-clef. Muni d'un bouton poussoir, il est alimenté grâce à des piles. Il existe une version « haute technologie », pour conférenciers, du célèbre couteau suisse. Il est équipé d'un stylo, d'un éclairage à LED, d'un pointeur laser et d'une clé USB.

Dépôt chimique en phase vapeur

vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

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Laser-based in situ monitoring of femtosecond-laser in-bulk processing of glass

Atomic Layer Deposition of Copper using Cu(II) Hexafluoroacetylacetonate and Diethylzinc: Surface Reaction Mechanisms and Surface Material Selectivity

A 15-Year Record of Organic–Inorganic Phosphorus Variability in Eastern Mediterranean Wet Deposition