Publication

Fermi surface map of large-scale single-orientation graphene on SiO2

Huanyao Cun
2017
Journal Articles

Résumé

Large scale tetraoctylammonium-assisted electrochemical transfer of graphene grown on single-crystalline Ir(1 1 1) films by chemical vapour deposition is reported. The transferred samples are characterized in air with optical microscopy, Raman spectroscopy and four point transport measurements, providing the sheet resistance and the Hall carrier concentration. In vacuum we apply low energy electron diffraction and photoelectron spectroscopy that indicate transferred large-scale single orientation graphene. Angular resolved photoemission reveals a Fermi surface and a Dirac point energy which are consistent with charge neutral graphene.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/aff1ab62-d33e-4fe6-8d94-0ebbaffa1df8

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Concepts associés (32)

Graphène

Le graphène est un matériau bidimensionnel cristallin, forme allotropique du carbone dont l'empilement constitue le graphite. Cette définition théorique est donnée par le physicien en 1947. Par la suite, le travail de différents groupes de recherche permettra de se rendre compte que la structure du graphène tout comme ses propriétés ne sont pas uniques et dépendent de sa synthèse/extraction (détaillée dans la section Production).

Spectrométrie photoélectronique X

vignette|upright=1.4|Machine XPS avec un analyseur de masse (A), des lentilles électromagnétiques (B), une chambre d'ultra-vide (C), une source de rayon X (D) et une pompe à vide (E) La spectrométrie photoélectronique X, ou spectrométrie de photoélectrons induits par rayons X (en anglais, X-Ray photoelectron spectrometry : XPS) est une méthode de spectrométrie photoélectronique qui implique la mesure des spectres de photoélectrons induits par des photons de rayon X.

Dépôt chimique en phase vapeur

vignette|Schéma d'un CVD Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. La CVD est un procédé utilisé pour produire des matériaux solides de haute performance, et de grande pureté. Ce procédé est souvent utilisé dans l'industrie du semi-conducteur pour produire des couches minces. Dans un procédé CVD typique, le substrat est exposé à un ou plusieurs précurseurs en phase gazeuse, qui réagissent et/ou se décomposent à la surface du substrat pour générer le dépôt désiré.

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Dataset to accompany publication "Quantum-mechanical effects in photoluminescence from thin crystalline gold films"

Controlling crystal cleavage in focused ion beam shaped specimens for surface spectroscopy

Nanolithography of the nanocorral structure of chemisorbed oxygen atoms on the graphitic lattice