Publication

Resistless Fabrication of Nanoimprint Lithography (NIL) Stamps Using Nano-Stencil Lithography

Jürgen Brugger, Luis Guillermo Villanueva Torrijo, Andreea Veronica Savu, Oscar Vazquez Mena, Katrin Sidler Arnet
2013
Journal Articles

Résumé

In order to keep up with the advances in nano-fabrication, alternative, cost-efficient lithography techniques need to be implemented. Two of the most promising are nanoimprint lithography (NIL) and stencil lithography. We explore here the possibility of fabricating the stamp using stencil lithography, which has the potential for a cost reduction in some fabrication facilities. We show that the stamps reproduce the membrane aperture patterns within ±10 nm and we validate such stamps by using them to fabricate metallic nanowires down to 100 nm in size.

Source officielle

https://infoscience.epfl.ch/entities/publication/9e17b807-ae92-4967-bcf2-d6405174ba11

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