Publication

System for aligning patterns on a substrate using stencil lithography

Jürgen Brugger
2010
Patents

Résumé

The invention relates to a system for aligning two or more patterns on a substrate using vacuum stencil lithography, such as to obtain optimum alignment precision. More specifically, the invention relates to a pattern-alignment system in which a mass sensor, which can detect material emitted, is placed in a known position behind the stencil, such that the position of the stencil can be ascertained as a function of the signal emitted by the sensor.

Source officielle

Graph Chat

Chattez avec Graph Search

Posez n’importe quelle question sur les cours, conférences, exercices, recherches, actualités, etc. de l’EPFL ou essayez les exemples de questions ci-dessous.

AVERTISSEMENT : Le chatbot Graph n'est pas programmé pour fournir des réponses explicites ou catégoriques à vos questions. Il transforme plutôt vos questions en demandes API qui sont distribuées aux différents services informatiques officiellement administrés par l'EPFL. Son but est uniquement de collecter et de recommander des références pertinentes à des contenus que vous pouvez explorer pour vous aider à répondre à vos questions.